臭氣處理設(shè)備 異味治理設(shè)備 廢氣處理設(shè)備 活性炭吸附凈化除臭裝置 活性炭吸附除臭設(shè)備 光催化除臭設(shè)備 光氧催化廢氣處理裝置 UV光解凈化器設(shè)備
食品廠廢氣處理設(shè)備工藝流程說明
(1)煙氣經(jīng)過管道搜集,在進(jìn)入煙氣管理設(shè)備之前先經(jīng)過管道過濾器粗濾,避免***顆粒物進(jìn)入處理設(shè)備,給設(shè)備構(gòu)成影響。
(2)煙氣粗濾后進(jìn)入預(yù)處理模塊,預(yù)處理模塊選用油煙別離板結(jié)構(gòu),將煙氣中攙雜的焦油、粉塵去除。
(3)經(jīng)過預(yù)處理模塊除油煙后,煙氣進(jìn)入設(shè)備的中心處理區(qū)域----等離子凈化區(qū),等離子凈化選用注入式等離子發(fā)生設(shè)備。外界新鮮空氣經(jīng)低溫等離子發(fā)生設(shè)備,得到等離子體送入等離子凈化區(qū)。在等離子凈化區(qū),***部分煙氣分子被等離子體炮擊、氧化后變成沒有毒、無色彩、沒有味的氣體。
(4)攙雜著部分低溫等離子體的煙氣抵達(dá)光化學(xué)模塊。高強(qiáng)輻照?qǐng)鰧?duì)煙氣成份有損壞效果并發(fā)生生動(dòng)的次生氧化劑;煙氣成份在氧化劑和光的協(xié)同效果下繼續(xù)發(fā)生氧化分化,zui終生成二氧化碳和水。
(5)超微凈化模塊設(shè)有順流循環(huán)噴淋體系、錯(cuò)流循環(huán)噴淋體系、重力沉降、磕碰除塵、氣流均布設(shè)備,能夠去除細(xì)小粉塵,滿意排放規(guī)范。
(6)整個(gè)煙氣管理設(shè)備中均規(guī)劃有自清體系,使用循環(huán)水對(duì)體系進(jìn)行主動(dòng)清潔。在光化學(xué)區(qū)和超微凈化模塊所發(fā)生的廢水經(jīng)過濾體系的過濾后循環(huán)使用。
(7)氣體在排放前,再經(jīng)過機(jī)械除霧區(qū)。在除霧區(qū)內(nèi),氣體中夾藏的水霧在折流板功用段內(nèi)凝集、滴落。
(8)除霧后,***于***家排放規(guī)范的氣體經(jīng)過引風(fēng)機(jī)排入***氣。